Aperçu des sections

• 

  Généralités

  • Announcements Forum
  • Announcements Forum
  • Tofim V. Curs BTM volumul II Fichier
  • Жаркой М. Ф. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ URL
  • Данилина Т.И., Кагадей В.А., Анищенко Е.В., Технология кремниевой наноэлектроники, 2011 URL
  • Наумченко А. С. Технология микросхем с проектными нормами 90 нм и менее URL
  • Младенов Г.М. Наноэлектроника. Книга 1: введение в наноэлектронные технологии URL
  • ТЕХНОЛОГИЯ ИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ URL
  • ТЕХНОЛОГИЯ СБОРКИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ URL
  • Mикротехнология Fichier
  • Быстрые термообработки в техологии сбис URL
  • IC Manufacturing Fichier
  • Fisa TVLSI Fichier
  • Curricula TVLSI Fichier
• 

  REGISTRU ELECTRONIC
• 

  T1. Evoluţia circuitelor integrate. Nivelul mondial de dezvoltare tehnologică. Particularităţile operaţiilor tehnologice de producere a circuitelor VLSI.
• 

  T2. Tehnologia clasică a circuitelor integrate nMOS, pMOS, CMOS, BiMOS, TEC-f-MOS.
• 

  T3. Bazele fizice a vaporizării termice în vid
• 

  T4. Epitaxia din fascicul molecular a Si și compușilor AIIIBV.
• 

  T5. Procese fizice în plasmă. Depunerea peliculelor în siste diodice, triodice. Pulverizarea reactivă. Pulverizarea cu magnetron. Corodarea uscată în plasma de argon și corodarea în plasma reactivă. Depunerea în plasmă a peliculelor dielectrice (SiO2, Si3
• 

  T6. Depunerea polisiliciului
• 

  T7. Operațiile litografice în tehnologia VLSI. Litografia cu fascicul electronic, rezoluția. Metodele de aliniere. Litografia cu raze X. Efectele de semiumbră și geometrice. Litografia cu fascicol de ioni.
• 

  T8. Implantarea ionică. Construcția instalației, principiul de funcționare. Distribuirea ionilor implantați pe adâncime.
• 

  T9. Depunerea polisiliciului. Influența diferitor factori la viteza de depunere.
• 

  T10. Metode de izolare a tranzistorilor MOS în circuite VLSI
• 

  T11. Tratamentul fotonic rapid
• 

  T12. Metalizarea multistrat în Tehnologia VLSI
• 

  T13. Perspectivele de dezvoltare a tehnologiei VLSI
• 

  Evaluare nr.1

  • Bilete Fichier

    Accès restreint Disponible à partir du 23 March 2026, 13:15
  • Repartizarea biletelor Fichier

    Accès restreint Disponible à partir du 23 March 2026, 13:15
  • Încarcă răspunsul aici Devoir
• 

  Lucrări de laborator

  • Tehnologia C.I.H și V.L.S.I Fichier
  • Lucrare de laborator nr.7 Fichier
  • Încarcă răspunsul aici pentru lucrările de laborator Devoir
  • Materiale pentru lucrari de laborator si proiect de an Dossier
• 

  Chestionar 2022

  • Chestionar Fichier